uv光氧催化設備：光氧催化工藝詳解過程

uv光氧催化設備：光催化氧化技能是在光化學氧化技能的基礎上發(fā)展起來的.光化學氧化技能是在可見光或紫外光作用下使有機污染物氧化降解的反響過程.但由于反響條件所限,光化學氧化降解往往不夠徹底,易發(fā)生多種芳香族有機中間體,成為光化學氧化需求克服的問題,而經過和光催化氧化劑的結合,能夠******進步光化學氧的功率.

依據光催化氧化劑使用的不同,能夠分為均相光催化氧化和非均相光催化氧化.

均相光催化降解是以Fe2+或Fe3+及H2O2為介質,經過光助 - 芬頓反響發(fā)生羥基自由基使污染物得到降解.紫外光線能夠進步氧化反響的作用,是一種有效的催化劑.紫外/臭氧(UV/03)組合是經過加快臭氧分解速率,進步羥基自由基的生成速度,并促使有機物形成很多活化分子,來進步難降解有機污染物的處理功率.

非均相光催化降解是使用光照射某些具有能帶結構的半導體光催化劑如TiO2、ZnO、CdS、WO3、SrTiO3、Fe2O3等,可誘發(fā)發(fā)生羥基自由基.在水溶液中,水分子在半導體光催化劑的作用下,發(fā)生氧化能力極強的羥基自由基,能夠氧化分解各種有機物.把這項技能使用于POPs的處理,能夠取得杰出的作用,但是并不是一切的半導體資料都能夠用作這項技能的催化劑,比方CdS是一種高活性的半導體光催化劑,但是它容易發(fā)生光陽極腐蝕,在實際處理技能中不太有用.而TiO2可使用的波長***可達387.5nm,價格便宜,多數條件下不溶解,耐光,無毒性,因此TiO2得到了廣泛的使用.